昂士特成立于2019年初，是一家集研发、生产、销售于一体的高新技术企业，致力于开发集成电路关键紧缺新型材料化学机械抛光液以及其他界面表面化学产品。属于“20+8”战略性新兴产业的新材料领域。 公司秉承“锲而不舍、奉献担当”的价值理念，坚持“自主研发、规模生产”的目标宗旨。 昂士特总部及研发中心位于粤港澳大湾区核心城市——深圳市，华东生产基地与先进技术研究院位于半导体产业新兴基地——合肥市。公司核心团队为化学机械平坦化（CMP）领域的技术专家，具有多年的高科技研发及客户服务经验，具备扎实的技术背景和先进的管理理念。主干研发团队汇聚了全球知名院校毕业的博士。全力将公司打造为一家国际一流的企业。力争通过遍布全球的业务渠道让我们的产品享誉世界。 公司配备有国内外先进的研发、晶圆测试及产品质量检测设备。目前自主研发的产品有集成电路类化学机械抛光液、晶圆衬底类化学机械抛光液、超精密加工抛光液等。产品拥有自主知识产权，已获得应用于集成电路、晶圆衬底领域的CMP抛光工艺相关的发明专利，力求为全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案。 参赛项目：半导体化学机械抛光(CMP)材料 化学机械抛光是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键工艺，通过表面化学作用和机械研磨的技术结合来实现晶圆表面微米/纳米级不同材料的去除，从而达到晶圆表面纳米级平坦化，使下一步的光刻工艺得以进行。 目前国内市场上使用的化学机械抛光液仍依赖于国外公司，是典型的“卡脖子”半导体工艺耗材之一，国内具备产品研发实力的企业屈指可数，我司自主研发化学机械抛光液具有高度平坦化、低表面粗糙度、低缺陷率、稀释比高的产品优势，能够针对不同晶圆制造工艺，抛光液配方组成成分及其浓度需要进行相应的优化与调整，在未来全国晶圆产能迅猛提升的背景下，我司具有极大的优势实现产品国产替代及提高市场占有率。
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2023/12/13 
